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立式真空清洗炉

产品属性

  • 所属分类:立式真空清洗炉
  • 产品编号:1573195848
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  • 发布日期:2024-01-05
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

立式真空清洗炉


立式真空清洗炉适用于化纤行业的洗涤、锦纶和丙纶生产用的组件、喷丝板、过滤芯等清洁处理,也适用塑料挤出行业的模具清洁之用。

该设备利用高分子聚合物在300°C左右时可熔融,高于300°C隔绝空气可裂解焦化,高于400°C在有少量空气并有一定真空度的环境中可完全氧化的特性,先将粘有高分子污物的工件加热到300°C(根据工艺要求拟定),使工件上数量较多的高分子聚合物溶化后流淌到炉膛下部的收集容器内,然后再将炉温升到400°C-500°C,同时打开真空泵,并通入少量新鲜空气,使剩余的聚合物充分氧化,生成的二氧化碳,经水喷淋后通过环式真空泵抽吸,和水一起排出炉外。

立式真空清洗炉

产品特点

立式真空清洗炉采用不锈钢电热管真空炉膛内直接加热,密封部位均采用密封圈,不需水冷却保护,所以,真空清洗炉加热功率小,热效率高,升温速度快,温度均匀性好,加热器检查维修方便,并且,克服了由于水冷却导致的炉内温度均匀性差,局部清洗效果不好等缺陷。真空清洗炉具有完整的自动化工作性能,只要对程序温度控制仪输入拟定的工作程序,设备即能进行自动化清洗工作,中途无需人工干预,并具有超温、缺相和断水或低水压报警功能。


工作原理

立式真空清洗炉的原理主要是通过抽取炉腔内部的空气,形成高真空环境。在高真空环境下,杂质和污垢会因为缺乏粒子间的气体分子作用力而容易脱落,提供了清洁和烘干的条件。同时,高真空环境还能有效地防止氧化反应的发生,保护产品的表面光洁度。


应用领域

立式真空清洗炉的应用非常广泛。例如,在电子行业中,该设备常用于清洗半导体芯片和集成电路等微细杂质的清除。在光学镜片制造工艺中,真空清洗炉可以去除镜片表面的灰尘和指纹,提高镜片的透光性和成像质量。此外,在航空航天、汽车等制造领域中,也可以利用真空清洗炉清洗和烘干各类零部件,以确保产品质量和性能。


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